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NanoCalc反射法納米測(cè)厚儀
光學(xué)特性從反射和干涉影像中顯現(xiàn)出來。膜厚測(cè)量?jī)x允許用戶從10nm到250μm分析光學(xué)圖層厚度。用戶可以觀察到一副圖層厚度分辨率達(dá)到0.1nm的單圖。根據(jù)用戶選擇的軟件，用戶可以分析單圖層或者小于二分之一的多圖層，并且可以測(cè)量圖層厚度和半導(dǎo)體加工影像或者增透涂料。
特點(diǎn)
·分析單一或者多層
·分辨率到0.1nm
·適用于原地，在線測(cè)量厚度
工作原理
兩個(gè)共同的通道用來測(cè)量膜層特征，光譜反射/傳播和橢圓偏 光。膜厚測(cè)量?jī)x利用反射原理來測(cè)量入射光到達(dá)樣品表面后從薄膜反射過來的波段。
通過n和k搜索
很多圖層可以被認(rèn)定是一個(gè)薄膜的堆積。很多的薄膜和基地原料都能被金屬、電介質(zhì)、非結(jié)晶或者水晶半導(dǎo)體。膜厚測(cè)量?jī)x軟件包含一個(gè)巨大的n和k價(jià)值庫提供很多的普遍原料。用戶可以編輯和添加數(shù)據(jù)庫。同樣，用戶可以通過方程式編程或者散射公式自定義材料類型。
用途
膜厚測(cè)量?jī)x適用于原地在線厚度檢測(cè)和移除速率應(yīng)用程序，并且可以被用來檢測(cè)氧化物的膜厚度，碳化硅，光阻材料和其他半導(dǎo)體薄膜處理。膜厚測(cè)量?jī)x可檢測(cè)增透膜涂層、耐摩擦涂層和粗糙涂層。
膜厚測(cè)量?jī)x
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NANOCALC-2000-UV-VIS-NIR |
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波長(zhǎng) |
250-1100nm |
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厚度 |
10nm-70μm |
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光源 |
氘燈和鹵素鎢燈 |
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NANOCALC-2000-UV-VIS |
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波長(zhǎng) |
250-850nm |
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厚度 |
10nm-20μm |
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光源 |
氘燈和鹵素鎢燈 |
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NANOCALC-2000-VIS-NIR |
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波長(zhǎng) |
400-110nm |
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厚度 |
20nm-100μm |
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光源 |
鹵素鎢燈 |
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NANOCALC-2000-VIS |
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波長(zhǎng) |
400-850nm |
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厚度 |
50nm-20μm |
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光源 |
鹵素鎢燈 |
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NANOCALC-2000-NIR |
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波長(zhǎng) |
650-1100nm |
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厚度 |
70nm-70μm |
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光源 |
鹵素鎢燈 |
反射計(jì)應(yīng)用軟件，需求下面項(xiàng)目
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NC-2UV-VIS100-2 |
兩支紫外光線
400μm×2m
2×SMA 連接器
靈活金屬包殼 |
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NC-STATE |
單點(diǎn)反射測(cè)量非透明樣品 |
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Step-Wafer |
5 Steps 0-500mm ，標(biāo)定誤差 4’’ |
如果應(yīng)用放大鏡，則需求下面的選項(xiàng)
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NC-7UV-VIS200-2 |
反射探頭用MFA-C-Mount對(duì)顯微鏡的應(yīng)用 |
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Stop-Wafer |
5 Steps 0-500mm ，標(biāo)定誤差 4’’ |
NanoCalc Specifications
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入射角 |
90° |
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層數(shù) |
3 或者 較少 |
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附加測(cè)量需要 |
Yes |
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透明材料 |
Yes |
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傳輸模式 |
Yes |
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&, lt;, SPAN style="FONT-FAMILY: 宋體; COLOR: black; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'; mso-bidi-font-size: 10.5pt">粗糙物料 |
Yes |
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測(cè)量速度 |
100ms-1s |
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在線 |
Yes |
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機(jī)械公差（高度） |
新參考資料或者準(zhǔn)直（74-UV） |
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機(jī)械公差（角度） |
Yes，有新的參考資料 |
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微黑子選項(xiàng) |
Yes，有顯微鏡 |
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視覺選項(xiàng) |
Yes，有顯微鏡 |
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映射選項(xiàng) |
6″和12″XYZ映射表格 |
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真空 |
Yes |
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