上圖是具有不同用途的金剛石薄膜產(chǎn)品，其中左上角是獨立式金剛石薄膜，右下角是在Si襯底上的金剛石薄膜.
產(chǎn)品說明：CVD金剛石薄膜
概述：
我們可以提供厚度低至50nm的獨立式金剛石薄膜。它們分別用于以下幾個方面：
• 超薄X-射線窗口
• 重離子輻射探測器
• 高能粒子輻射發(fā)光屏
• 產(chǎn)生高離化粒子的剝離膜
• 激光加速膜
這樣的金剛石薄膜可以采用獨立式的，也可以用CVD技術(shù)沉積到附加的支撐基底上。
CVD金剛石薄膜規(guī)格參數(shù)：
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材料
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CVD光學級金剛石
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導熱系數(shù)
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>1800 W/mK
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表面
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雙面拋光，表面粗糙度< 10 nm rms
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尺寸
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直徑可達76 mm（依賴于厚度）
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厚度
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在50nm（更薄，可根據(jù)要求）和幾十μm之間
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鍍膜
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金屬化或介質(zhì)層
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裝配
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獨立式或附加到支撐體上
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